工程擬建地下室兩層，總用地面積約13951平方米。地下室基坑墊層底標(biāo)高為-6.50m(85標(biāo)高)，室內(nèi)±0.00標(biāo)高對應(yīng)85標(biāo)高為2.80m，基坑周邊地面85標(biāo)高為1.5~2.500m基坑開挖深度為7.90~9.00m。
根據(jù)工程勘察報(bào)告場地的地層主要為：雜填土、淤泥質(zhì)粘土、粉砂、粉質(zhì)粘土、殘積土、強(qiáng)風(fēng)化、中風(fēng)化�；又ёo(hù)止水幕墻應(yīng)穿過層淤泥質(zhì)土層及粉砂層到達(dá)粉質(zhì)粘土層。
地下水概況：場地中的巖、土層含水性能一般，富含水層主要有第4層粉砂，上部主要為上層滯水、潛水、承壓水，下部為基巖裂隙水，其水量不大。
