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工程概況
場地位于xx市xx區(qū)東坑村南西側(cè)、光明大道與二十三號路相交的西北角，西側(cè)與xxxx有限公司毗鄰，交通方便。場地擬建一棟生產(chǎn)房及研發(fā)大樓，建筑總面積52507.0m2，生產(chǎn)房建筑總高度55.10m，地下一層，地上12層；研發(fā)大樓，建筑總高度45.60m，地下一層，地上11層（局部4層），擬建建筑均采用框剪結(jié)構(gòu)，跨度組合為8.1×m8.2m，基坑面積6568m2，基坑深度6.10m，安全等級為三級。