本工程為高層建筑的基坑，該建筑物主體結(jié)構(gòu)地上15層，地下2層，地下室頂板頂面標(biāo)高為-2.0m，頂板厚400mm；地下二層樓板頂面標(biāo)高為-5.5m，樓板厚200mm；底板頂面標(biāo)高-9.0m，底板厚1000mm；基坑開挖深度為10m；基礎(chǔ)底尺寸50m×30m。場地西鄰城市道路，機動車道寬度13m，距離基坑邊緣6m；南側(cè)距基坑邊緣3m處為一座8層建筑物，基礎(chǔ)埋深3m；北側(cè)距2.5m處為5層建筑，該兩棟建筑基礎(chǔ)埋深為2m；東側(cè)為開闊場地。場地內(nèi)無影響施工的地下管線。如下圖所示。
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