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基坑西側(cè)為銀行，西北側(cè)為3層已有建筑，地下基礎(chǔ)范圍線距3層已有建筑最近距離約為4.5m�；�坑北側(cè)為文化路，地下基礎(chǔ)范圍線距文化路最近路基約為12.3m�；�坑?xùn)|側(cè)為廠房，地下基礎(chǔ)范圍線距用地紅線最近距離約為5m�；�坑南側(cè)為家屬樓，基坑南側(cè)地下基礎(chǔ)范圍線距用地紅線最近距離約5.1m。