本工程位于XX鎮(zhèn)，建筑物為地下一層、地上十一層，框架剪力墻式商住樓。基坑設(shè)計(jì)規(guī)模：南北35.280m，東西174.4m；±0.000=133.60m；基坑底標(biāo)高128.00m�；A(chǔ)形式為機(jī)械旋挖樁基礎(chǔ)和柱下獨(dú)立基礎(chǔ)兩種基礎(chǔ)形式。本工程西面和西北面采用分段分層開挖方式，其余部分采用土方大開挖。場地地質(zhì)條件：根據(jù)地質(zhì)勘查報(bào)告所知本工程的地層分為3個(gè)地質(zhì)單元共7層。
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