該項(xiàng)目為地上21層，地下部分5層，框架剪力墻結(jié)構(gòu)，筏板基礎(chǔ)，基礎(chǔ)埋深為-21m（相對(duì)標(biāo)高），擬建建筑物南側(cè)與XX電子城地下室的北側(cè)相連。本工程施工包括基坑土方、護(hù)坡、降水。
槽底標(biāo)高低于場(chǎng)區(qū)內(nèi)兩層地下水的水位標(biāo)高，將水位降至槽底最深處0.5m以下，其中上層滯水和層間潛水需全部疏干，才能保證基坑的正常施工。
槽底標(biāo)高低于場(chǎng)區(qū)內(nèi)兩層地下水的水位標(biāo)高，將水位降至槽底最深處0.5m以下，其中上層滯水和層間潛水需全部疏干，才能保證基坑的正常施工。
