目標(biāo)方位測(cè)量:打開羅盤,打開瞄準(zhǔn)器。
將瞄準(zhǔn)器即羅盤北端指向目標(biāo),在反光鏡中瞄準(zhǔn),使目標(biāo)、瞄準(zhǔn)器和反光鏡上的刻線重合,使圓水準(zhǔn)器氣泡居中。此時(shí)磁針北端所指水平刻度盤上的讀數(shù)就是目標(biāo)相對(duì)與觀測(cè)者的方位
巖層產(chǎn)狀的測(cè)量:首先通過觀察找出能夠代表巖層面的一個(gè)平整的面,如果層面不平整,可將記錄簿放在層面上。打開羅盤,將羅盤端平,使羅盤的南北方向的邊緣靠在層面上,使氣泡居中,此時(shí)磁針?biāo)杆娇潭染褪菐r層的走向。讓羅盤的東西方向的邊緣靠在層面上,羅盤北端指向巖層傾斜方向,使水平氣泡居中,此時(shí)磁針北端所指水平刻度就是就是巖層的傾向。大致判斷出層面的傾斜線,將羅盤盒的南北方向的邊緣靠在傾斜線上,使羅盤直立,轉(zhuǎn)動(dòng)測(cè)斜器使測(cè)斜器氣泡居中,此時(shí)測(cè)斜器所指垂直刻度盤上的讀數(shù)就是巖層的傾角。
斷層、節(jié)理等平面的產(chǎn)狀測(cè)量與巖層產(chǎn)狀測(cè)量相同。