基坑抄平處理不當(dāng)?shù)脑蚍治黾胺乐未胧┯心男?/strong>

1.現(xiàn)象
基坑開挖深度與設(shè)計(jì)標(biāo)高不符,或基坑內(nèi)兩端及多塊局部水平標(biāo)高線偏差較大。
2.分析原因
(1)基坑內(nèi)水準(zhǔn)標(biāo)高控制方法不正確。
(2)基坑面積較大,而水淮標(biāo)高基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置數(shù)量不足,致使前后視線不等長,距離差過大。
(3)基坑內(nèi)四周引進(jìn)的水平標(biāo)高點(diǎn)未閉合,局部控制樁移位。
3.防治措施
(1) 當(dāng)基坑深度較淺 (≤5m)且邊坡土質(zhì)穩(wěn)定時,在基坑將要挖到基底設(shè)計(jì)標(biāo)高時,再用水準(zhǔn)儀在坑內(nèi)四周槽壁上測設(shè)一些小木樁,使其頂面到坑底 設(shè)計(jì)標(biāo)高為一固定值,作為控制高程的依據(jù)。
(2)當(dāng)基坑埋深較大時(>5m),在基坑四周護(hù)坡鋼板樁、混凝土護(hù)壁樁或其他支護(hù)設(shè)施上,選擇部分側(cè)面豎向平直規(guī)正的樁,在其上各涂一條 10cm 寬的豎向白漆帶,用水準(zhǔn)儀根據(jù)原始水準(zhǔn)點(diǎn)測出±0.000 以下各整米數(shù)的水平線,用紅漆段間隔分色,做出標(biāo)識,作為水準(zhǔn)控制點(diǎn),然后在基坑內(nèi)使用水準(zhǔn)儀,校測四周護(hù)坡樁上的水準(zhǔn)點(diǎn)是否在同一標(biāo)高的水平線上,誤差不得超過 ±3mm。在施測基礎(chǔ)標(biāo)高時,應(yīng)后視兩個以上的準(zhǔn)點(diǎn)作為校核。
(3)觀察時盡量選擇適當(dāng)?shù)目觾?nèi)基準(zhǔn)點(diǎn),使前后視線等長