本工程位于XX市XX區(qū)XX工業(yè)園北側(cè)，南側(cè)為XX工業(yè)園已建2#工程師樓、3#員工宿舍樓，與支護(hù)邊線距離為3.7~16.5m。東、西、北側(cè)為創(chuàng)維科技工業(yè)園紅線，與支護(hù)邊線距離大于16.0m，紅線外側(cè)為原始的下坡山體。場(chǎng)地?cái)M建2棟25層工程師住宅樓，1層地下室，根據(jù)周邊環(huán)境整平后的基坑開(kāi)挖深度4.7~6.0m，支護(hù)周長(zhǎng)約為476.3m。
場(chǎng)地特點(diǎn)：（1）施工場(chǎng)地狹窄；（2）基坑土方開(kāi)挖深度較深，開(kāi)挖深度約為5m；（3)基坑距1#、2#工程師宿舍樓較近；（4）場(chǎng)區(qū)原已預(yù)埋給水、消防水環(huán)網(wǎng)，場(chǎng)區(qū)內(nèi)有部分弱電管線；（5）根據(jù)地質(zhì)勘查報(bào)告，基坑開(kāi)挖后標(biāo)高高于地下水位
